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半導體

2016年實現年產120萬片12英寸及以上電子級單晶硅

日前,國家發展改革委、財政部、工業和信息化部會同科技部、中國科學院、中國工程院、國家知識產權局等部門和單位聯合制定了《關鍵材料升級換代工程實施方案》(以下簡稱《實施方案》)。《實施方案》明確“ 到2016年,推動新一代信息技術、節能環保、海洋工程和先進軌道交通裝備等產業發展急需的大尺寸單晶硅、寬禁帶半導體及器件、新型平板顯示玻璃、石墨烯、PM2.5過濾材料、高性能Low-E玻璃、高速鐵路輪對、液化天然氣船用殷瓦合金薄帶、鈦合金管、海水拌養混凝土、新型防腐涂料等20種左右重點新材料實現批量穩定生產和規模應用”,“ 培育30家左右具有較強持續創新能力和市場影響力的新材料企業”。其中,《實施方案》要求,到2016年,新一代半導體材料形成年產120萬片12英寸及以上電子級單晶硅片和年產12萬片SOI能力。

為貫徹落實國務院印發的《“十二五”國家戰略性新興產業發展規劃》(國發[2012]28號)和工業和信息化部印發的《新材料產業“十二五”發展規劃》(工信部規[2012]2號),加快推進新材料產業發展,《實施方案》對新一代信息技術產業發展急需的高性能功能材料提出了具體要求,其中包括新一代半導體材料和新型玻璃材料。

對新一代半導體材料,要求支持低缺陷12英寸及以上電子級單晶硅、超薄8英寸及以上絕緣體上硅(SOI)、寬禁帶半導體與器件,以及AMOLED有機發光材料及器件產業化和示范應用。到2016年,形成年產120萬片12英寸及以上電子級單晶硅片和年產12萬片SOI能力,單晶硅片符合SEMI C12標準要求并在大規模集成電路等領域規模應用;6英寸及以上氮化鎵半導體年產超過2萬片,并在大功率器件領域實現規模應用;高純長壽命AMOLED有機發光材料年產達到5噸以上并在新型顯示領域實現示范應用,產品性能較目前提升20%%,成本降低30%%;高能射線探測用碲鋅鎘半導體材料與器件實現產業化,碲鋅鎘晶體年產達到4000萬mm3,并在工業CT及專用探測器等領域實現規模應用。

對新型玻璃材料,要求支持新型TFT顯示超薄玻璃基板產業化,玻璃厚度小于0.4mm,單線年產達到80萬片以上,并在高端平板電腦、智能手機等領域規模應用。支持高性能光纖預制棒產業化,光纖預制棒年產大于1000噸,預制棒母棒長度≥1.5m,直徑≥150mm,單根棒拉絲長度達到300公里,開發系列低損耗、光敏性可控高性能特種光纖,光纖預制棒成本較目前降低50%%,完成基于有源光纖的高能激光器系統應用驗證。同時,支持高性能低成本石墨烯粉體及高性能薄膜實現規模穩定生產,在新型顯示、先進電池等領域實現應用示范。

同時,《實施方案》指出,要選擇一批產業發展急需、市場潛力巨大且前期基礎較好的關鍵新材料,支持產業鏈上下游優勢互補與協同合作,加快新材料技術創新成果產業化和規模應用,提升我國新材料產業化和規模應用能力與效率,促進一批新材料企業形成持續創新發展能力,推動我國新材料產業做大做強。

到2016年,推動新一代信息技術、節能環保、海洋工程和先進軌道交通裝備等產業發展急需20種左右重點新材料實現批量穩定生產和規模應用。促進材料生產企業與重大示范應用企業建立優勢互補、緊密合作、利益共享機制清晰的新型關系。培育30家左右具有較強持續創新能力和市場影響力的新材料企業。《實施方案》明確,到2020年,繼續圍繞新一代信息技術、航空航天、先進軌道交通、海洋工程、新能源、新能源汽車等戰略性新興產業和國民經濟重大工程建設需要,突出重點,促進50種以上重點新材料實現規模穩定生產與應用。新材料產業創新能力和關鍵材料自給率顯著提升,形成多個具有較強持續創新能力和市場影響力的新材料企業,部分企業創新能力和市場影響力達到國際先進水平。

《實施方案》要求發揮企業創新主體作用和政府引導作用,加強新材料產業化和示范應用等環節的知識產權創造、運用、保護和管理,完善新材料產業標準體系,鼓勵創業投資、股權投資投向新材料產業化和重大應用企業,有效拓寬新材料企業融資渠道,支持有條件的企業充分利用中央和地方的人才引進計劃和相關支持政策,加強高層次人才和團隊引進等六項保障措施。

責任編輯:王澤旭


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